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產(chǎn)品型號：PPS8500廠商性質：經(jīng)銷商更新時間：2025-11-15訪 問 量：443池田屋ORC歐阿希 PPS-8500半導體曝光設備儀器
池田屋ORC歐阿希 PPS-8500半導體曝光設備儀器
它是一種小型輕便的手持式測量儀器。適用于管理生產(chǎn)現(xiàn)場配備紫外線燈的設備。
請使用它來管理紫外線燈的紫外線照射量（照度/光量）。
大型面板專用步進機
兼容因熱處理而高度翹曲的電路板以及具有扭曲的重新布線表面的電路板。
能夠利用最佳的吸附方式吸附并輸送翹曲的工件
具有多點對焦的自動對焦功能
支持面板伸縮的對齊功能
配備分割全局對準、逐個鏡頭（逐個芯片）對準和標線縮放功能
兼容各種應用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機
寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質的影響兼容各種應用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機
寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質的影響兼容各種應用
兼容WL-CSP、IGBT、CIS等6/8/12英寸光刻機
寬帶曝光（自動切換配方GHI線GH線、I線聯(lián)動）配備變量NA功能（0.16和0.1變量）標線設計格式最多 8 個區(qū)域光學系統(tǒng)免受周圍環(huán)境中的抗蝕劑脫氣和化學物質的影響
| 模型 | PPS-8500 |
|---|---|
| 面板尺寸 | 510 x 515mm（最大） |
| 解決 | 2.0 µmL/S（2.0 µm 抗蝕劑厚度） |
| NA（數(shù)值孔徑） | 0.16、0.1 變量 |
| 減速比 | 1:1 |
| 場地大小 | 52毫米×33毫米 |
| 曝光波長 | ghi-Line gh-line i-line（食譜鏈接） |
| 標線尺寸 | 6寸 |
| 疊加精度 | ≤1.0 µm(|平均|+3σ) |
| 設備尺寸/重量 | (寬)3,000×(深)4,800×(高)2,500mm / 11,000kg |
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